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台积电今(14) 日举办技术论坛,营运组织先进技术工程副总经理田博仁表示,为满足全球客户快速成长需求,台积电正以过去两倍速度推进全球产能扩张,现阶段正在全球新建与改造18 座晶圆厂,其中包括5 座先进封测厂,将同步强化先进制程晶圆产能与先进封装产能。
田博仁指出,台积电2017 年至2024 年平均每年新建4 座新厂,但2025 年至2026 年间,扩张速度将提升至每年9 座新厂,显示公司正加速回应AI、高效能运算(HPC) 与先进封装需求快速成长。 2026 年,台积电计划在台湾新建4 座晶圆厂与2 座先进封装厂,并持续推进全球12 吋晶圆厂布局。
美国第二座厂2027 年下半年生产N3 制程
在海外布局方面,美国亚利桑那州厂区已完成现有厂区与新土地取得,以支援后续扩张计划。田副总表示,亚利桑那第一座晶圆厂已于2024 年底开始生产N4 制程,预计2026 年产出将年增1.8 倍;第二座晶圆厂预计2026 年下半年开始设备移入,并于2027 年下半年开始生产N3 制程;第三座晶圆厂已在2025 年上半年动工,第四座晶圆厂与第一座先进封装厂也已进入初期建设阶段。
日本28/22 纳米良率已达台湾水准
日本熊本方面,第一座晶圆厂已进入28 纳米与22 纳米量产;第二座晶圆厂已于2025 年开始建设,预计生产N3 制程。田博仁表示,熊本厂2026 年N28 与N22 产出目标,将达2025 年的2.3 倍,且28 奈米、22 奈米良率已达与台湾厂相当水准。
欧洲布局部分,德国德勒斯登ESMC 建设进度顺利,该厂将聚焦汽车与工业应用,支援欧洲客户采用28 纳米、22 纳米、16 纳米与12 纳米制程技术。中国大陆厂区则将持续提供16 纳米与28 纳米产品。
台湾是扩产核心
台湾仍是台积电先进制程与先进封装扩产核心。田博仁指出,目前台湾共有12 座晶圆厂或先进封装厂正在建设中,其中新竹20 厂与高雄22 厂是N2 及更先进制程量产基地,两座晶圆厂已开始量产;台中25 厂则已于2025 年动工,计划2028 年开始量产,预计生产2 纳米及更先进制程。
N2 首年产出比N3 多45%
先进制程方面,田博仁表示,台积电最先进N2 制程已进入量产,良率学习曲线优于N3 同期进度,后续以N2 为基础、搭配A16 制程,也将按计划如期量产。为支援客户对2 纳米制程的强劲需求,台积电在研发与营运团队「One Team」协作下,将于2026 年同步启动多座晶圆厂,N2 量产第一年产出将较N3 同期高出45%,2026 年至2028 年N2 产能预计将以约70% 的年复合成长率扩大。
N3/N5 产能至2027 年CAGR 达25%
除N2 外,台积电也将持续扩大N3 与N5 产能。田博仁指出,尽管N3 与N5 制程技术复杂度高于N7,但量产初期表现已优于N7;2022 年至2027 年,N3 与N5 产能将以约25% 的年复合成长率扩充,并透过不同制程节点间的弹性配置,提高产能调度效率。
2027 年前先进封装产能CAGR 逾80%
在先进封装方面,田博仁表示,CoWoS 与SoIC 等3DIC 技术持续推进,SoIC-X 已进入量产阶段,相关产能预期将有超过80% 的成长。为满足AI 应用对先进封装的强劲需求,台积电2022 年至2027 年将以超过80% 的年复合成长率,积极扩充CoWoS 与相关3DIC 产品产能。
AI 开始导入工厂
田博仁也强调,在新产能到位前,台积电将透过数位化与AI 驱动技术,提高既有先进制程产出。公司已将N3、N5、N7 厂区串联,并透过AI 进行跨厂区最佳化;智能排程、机台日志分析、反应室状态判断与新机台验证等应用,也有助于提升机台效率、缩短生产周期,并缩短逾20% 的量产导入时间。
绿色制造方面,台积电重申2050 年达成净零排放目标,并透过再生能源、节能机台与低碳原物料等措施,于2025 年达成减碳380 万吨。废弃物管理方面,台积电目标将自行资源化比例提升至70%、整体废弃物再利用率提升至98%;水资源管理则以2040 年达成100% 水资源正效益为目标。
(来源:内容来自半导体行业观察综合)
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