中国通信专家：国产DUV已经到位，美国对EUV的封锁也马上封不住了

据上海东方卫视《今晚》栏目与中国通信专家、复旦大学特邀研究员汪涛的对话指出，中美芯片战已经进入到了最后的“总攻”阶段，美国对华制裁的最后堡垒不是DUV光刻机，而是EUV光刻机。

再有一段时间，我们的干式DUV和浸润式DUV就逐步趋向于成熟，更为重要的就是EUV光刻机这个技术堡垒。研发光刻机的中国企业不只一个，DUV设备已经开始测试，EUV也已经完成了原型机的制造。如果没有美国这样极端的制裁，那么中国企业在半导体设备领域的发展不会这么快。

参考资料：
焦点对话：欲对华芯片“全面绞杀”美国“双法案”会坑了谁？（15分钟53秒）

• https://www.kankanews.com/detail/0zwqvWVDA27

双法案

在美国推出match法案之前，还出台了芯片安全法，要求对美国企业所出售的尖端芯片进行实时监管。任何一颗出售给中国企业的芯片，都要搭载可追踪、防篡改、远程锁定等功能的芯片安全机制，随时掌握芯片出口的一举一动。

此前美国只是针对算力性能进行限制，这让英伟达和AMD借此机会针对中国市场推出特供版芯片。而此次将算力性能的限制转变为地理位置的限制，极大压缩了特供版芯片的生存空间。

芯片安全法是针对美国尖端芯片的出口管制，而后来推出的match法案则是将目标扩大到制造设备等供应链层面。

此前美国针对设备的管制只是停留在较为先进的技术节点，EUV率先被全面封锁，紧接着就是对中国大陆地区部分先进晶圆厂实施浸润式光刻机的封锁。

match法案则是在之前的基础上进一步压缩中国企业的生存空间，对华虹集团、中芯国际、华为、长江存储、长鑫存储这5家中国企业实施全面制裁，切断其所有浸润式DUV光刻机的出口，并且要求ASML、东京电子等盟友国企业在150天内叫停与这5家中国企业合作的同时，还对中国企业此前已购设备的技术维护工作实施限制。

据产业报道称，美国此次法案的核心意图就是“砸掉”中国企业攀登技术珠峰的梯子，使其丧失在先进技术节点持续积累经验的机会。

据通信专家汪涛先生在节目中指出，浸润式DUV光刻机的禁售，其影响的是成熟芯片的扩产。浸润式光刻机既可以制造90nm—28nm的芯片，又可以通过自对准技术的套刻将芯片的制造范围覆盖到7nm节点。

我们国产的DUV光刻机在干式领域已经很成熟了，并且成功进入商业化阶段。而我们的浸润式光刻机也在今年提交给客户进行小规模制造，目前正在持续积累技术经验，推动国产浸润式迈向更先进、更加成熟的阶段。

推进制裁

荷兰ASML及日本东京电子等公司，目前并未对match法案进行回复，荷兰政府及日本政府也并未对match法案的推进表示明确态度。

日本及荷兰在2025年全球半导体设备市场当中，分别占32%和17%的份额，并且目前全球范围内也只有这两个国家的企业拥有大规模量产光刻机的能力。而中国市场占双方总市场份额的30%以上，一旦match法案正式实施，直接冲击的就是日本及荷兰设备厂商的商业利益。

美国哥伦比亚大学教授杰弗里·萨克斯，曾在央视《高端访谈》节目中指出：

ASML作为一家地处欧洲荷兰的企业，它的运营却受到美国的影响，美国可以决定ASML设备的出口地，甚至强制性叫停它们与中国企业的合作，欧洲在这个过程中毫无话语权。

中国科技在全球竞争当中取得了进步，这可能会让一些美国人感到紧张，这能理解。这种情绪本应该转化为持续发展科技的动力，彼此之间在竞争当中合作，在合作当中竞争，共同受益，而遏制发展则是另一回事。况且美国遏制不了中国，这个想法太荒谬了。

参考资料：
[高端访谈]哥伦比亚大学教授杰弗里·萨克斯

• https://tv.cctv.cn/2025/10/10/VIDEf3TLzN4AacOvJFkUGtKG251010.shtml

萨克斯教授在访谈中直接断定，遏制中国是荒谬的，也是徒劳的。而如今的中国半导体产业发展，也正如萨克斯教授所言，不但没能遏制住中国的发展，反而还让中国企业掌握了多项自主可控的尖端技术和制造设备。