北京
国家知识产权局信息显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司申请一项名为“半导体制造设备，及其尾气处理方法、系统”的专利，公开号CN121944738A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本公开提供了一种半导体制造设备，及其尾气处理方法、系统。半导体制造设备具有工艺腔室和与工艺腔室流体连通的排气流路，其特征在于，尾气处理系统包括：反应介质调节单元，配置为与排气流路流体连接，用于向排气流路内的流体中受控地引入化学改性介质，化学改性介质与流体中的工艺副产物发生反应以生成具有稳定性高于工艺副产物的衍生物；流体动力驱动单元，配置为在排气流路中产生沿远离工艺腔室方向的压力梯度，以使所述衍生物向远离工艺腔室的方向移动；动态平衡控制单元，配置为根据工艺腔室内的实时压力状态，调节反应介质调节单元的介质引入参数和流体动力驱动单元的驱动参数。
天眼查资料显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司，成立于2016年，位于西安市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本403780万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟材料科技股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目13次，专利信息1563条，此外企业还拥有行政许可24个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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