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案例:电子元器件厂显影液废水处理工程
项目背景
该电子厂专业生产高精度电路板,显影液废水日排放量8吨,具有成分复杂、毒性大、难降解等特点。废水中含有大量光致抗蚀剂残留和重金属,处理难度大。项目要求实现废水回用率≥60%,其余达标排放。
废水成分及来源
废水主要来自电路板显影、蚀刻工序,特征污染物包括:
有机光刻胶残余物:环氧树脂、酚醛树脂等
重金属:铜离子(150-200mg/L)、镍离子(20-30mg/L)
有机溶剂:乙二醇单甲醚、N-甲基吡咯烷酮等
pH值波动大,通常在1-3的强酸性范围
处理工艺流程
根据"分类收集、分质处理"原则,采用以下创新工艺:
分类收集系统:将不同工序废水分别收集
微电解反应:铁碳微电解降解难处理有机物
高级氧化:臭氧/过氧化氢联合氧化分解持久性有机物
特种树脂吸附:选择性去除重金属离子
反渗透系统:产水回用于生产工序
蒸发结晶:浓缩液减量化处理
最终效果
项目建成后取得显著成效:
废水回用率达到68%,年节约新鲜用水约2000吨
排放水COD<50mg/L,重金属<0.1mg/L
有机溶剂去除率>99.5%,无二次污染
系统自动化程度高,人工操作减少70%
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