北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于产生图案形成装置且因此产生图案的系统、产品和方法”的专利，公开号CN121918350A，申请日期为2021年5月。
专利摘要显示，具有指令的非暂时性计算机可读介质，指令在由计算机执行时使计算机执行用于改进图案形成装置的设计的方法。方法包括：获得掩模特征的设计的掩模点，其中，掩模特征与待印刷于衬底上的目标图案中的目标特征相关联；以及调整掩模点的位置，以基于被调整的掩模点产生掩模特征的被修改的设计。获得掩模点包括：从目标特征导出掩模点，其中导出包括：使掩模点与目标特征上的控制点相关联，以产生第一组掩模点与第一控制点之间的第一关联关系、以及第二组掩模点与第二控制点之间的第二关联关系。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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