湖北
3 月 25 日～27 日，由国际半导体产业协会（SEMI）主办的 Semicon China 2026 圆满落幕。作为全球半导体行业顶级盛会，本次展会汇聚产业链上下游核心企业、技术精英与行业伙伴，成为展现全球半导体技术迭代与产业布局的核心舞台。
作为专注质谱研发与半导体气体检测的高新技术企业，上海爱柯锐科技有限公司（ACT）深耕质谱领域多年，团队源自高校与科研院所，以ACT—Accurate为品牌理念，聚焦芯片制造 “高精度、高稳定、高安全” 核心需求。此次公司携完全自主知识产权的新一代MLS211M 集成智能化一体式在线气体分析仪重磅亮相，凭借全链自主的硬核实力，成为现场焦点，收获业界高度关注与广泛认可。
从核心离子源、高精度检测器，到整机系统、智能软件与通讯协议，爱柯锐实现关键部件 100% 自研、国产，全面构建 “材料 — 部件 — 系统 — 软件 — 通讯” 全链条自主能力，以极致精准与稳定可靠，为半导体工艺安全、良率提升筑牢防线。
长期以来，半导体工艺气体检测与残余气体分析（RGA）市场长期被欧美日企业垄断，成为制约国内半导体产业高质量发展的 “卡脖子” 痛点。直面行业困境，爱柯锐逆势突围，展会重磅推出MLS211M 高精半导体工艺气体过程检测仪，正式打响国产高端在线气体分析突围战，为国产替代注入强劲动力。
核心展品：MLS211M 高精半导体工艺气体过程检测仪
新一代集成智能化一体式在线气体分析仪
MLS211M 专为先进芯片制造严苛环境打造，是集泄漏检测、工艺气体监控、腔体洁净度检测、制程终点检测于一体的多功能气体分析解决方案，全面覆盖半导体制造高精度过程监控与质量控制需求。
核心技术亮点（极致突出产品优势）
- 超高检测灵敏度
- 最低检测限可达3e-13 Pa，精准识别 ppb 级微量杂质气体，有效避免 O₂、H₂O 等微量杂质导致芯片缺陷。
- 宽量程与高分辨率
- 分子质量检测范围最高300amu，质谱分辨率0.5–2.5amu 可调，避免 SiH₄、NH₃等工艺气体与 H₂O、CO 杂质误判，多气体同步监测。
- 极速响应速度
- 驻留时间最快1ms，测试响应小于1s，实时捕捉工艺变化，避免过度刻蚀 / 沉积影响晶圆良率。
- 高稳定与抗污染能力
- 离子源抗腐蚀设计，耐受 Cl₂、F₂等腐蚀性气体；支持原位清洁，长期运行漂移小，无需频繁校准，大幅降低维护成本。
- 超强兼容与自动化集成
- 分子泵与前级泵分离设计，机身小巧，可直连腔室 / 真空管路；支持SEMI 标准 SECS/GEM 协议，无缝对接 MES 系统，实现 “自动检测 — 数据上传 — 异常报警” 闭环管控。
- 一体式便捷设计
- 内置多压力反应阀组，覆盖常压到超高真空；内置标气 / 标漏，一键校准；带安装导轨，任意角度安装，易用性拉满。
全场景典型应用（四大核心场景）
- 泄漏检测与定位
- 极速响应、高精度灵敏度、多组分同步识别、原位非侵入式检漏、泄漏源精准追溯。
- 工艺气体监控
- 原位直采、痕量级精度、多组分同步分析、数据智能联动，支撑主动工艺优化。
- 腔体洁净度检测
- 实时污染预警、高灵敏度捕捉痕量污染物、多组分一次性全覆盖。
- 制程终点检测
- 刻蚀 / 薄膜剥离等制程精准判终点，通过副产物浓度变化实现闭环控制。
核心规格速览
- 质量范围：1–300u，分辨率 0.5–2.5u
- 总压范围：5E-9 mbar ~ 1000 mbar
- 最小可检分压：最低1e-13 mbar
- 扫描速度：1ms–16s/u
- 通讯：支持 SECS/GEM、MES 对接
- 尺寸：593180366mm，重量 10–13kg
值得关注的是，MLS211M已在多家头部半导体客户完成产线验证并实现批量销售，订单持续落地，充分印证产品性能与市场认可度，进一步夯实爱柯锐在国产半导体高端气体检测领域的领先地位。
以全自研护航半导体工艺安全，以全链自主重塑检测格局。爱柯锐始终以技术创新为核心，深耕高端质谱与气体分析设备研发，助力国内半导体产业打破国外垄断、实现自主可控。
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