北京
国家知识产权局信息显示，武汉华工图像技术开发有限公司申请一项名为“一种全息冷烫膜、全息热转印膜及其制备方法”的专利，公开号CN121821980A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种全息冷烫膜，包括依次层叠设置的基膜层、信息层和全息层，所述信息层和全息层之间具有相互咬合的全息微结构；所述信息层的材料包括环氧丙烯酸酯类UV低聚物45%~70%、单官能度苯乙烯稀释剂8%~20%、阳离子光固化剂1%~10%、聚硅氧烷5%~8%、碳酸钙5%~25%；所述全息层的材料包括醋酸纤维素15%~25%、聚甲基丙烯酸甲酯67%~80%、聚酯改性聚氨酯5%~8%。本发明公开了采用全息冷烫膜制备的全息热转印膜及制备方法。本发明可实现图案完整、亮度好的高质量全息图案转移到热转印膜中，制备高质量全息热转印膜。
天眼查资料显示，武汉华工图像技术开发有限公司，成立于2007年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本21979.77万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华工图像技术开发有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目155次，专利信息224条，此外企业还拥有行政许可25个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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