国家知识产权局信息显示,江汉大学、武汉天马微电子有限公司、湖北鼎龙控股股份有限公司申请一项名为“外电场诱导聚酰亚胺分子排列提高透明性的方法、系统及聚酰亚胺薄膜”的专利,公开号CN121801144A,申请日期为2026年3月。
专利摘要显示,本发明公开了外电场诱导聚酰亚胺分子排列提高透明性的方法、系统及聚酰亚胺薄膜,该方法包括以下步骤:S1、制备聚酰亚胺成膜溶液,聚酰亚胺成膜溶液为聚酰亚胺前驱体溶液或可溶性聚酰亚胺溶液;S2、将聚酰亚胺成膜溶液涂覆于导电基底上形成湿膜;S3、在湿膜热处理的过程中,对湿膜施加外电场,使湿膜固化形成聚酰亚胺薄膜。该系统包括加热台、导电基底、绝缘垫片、电极和电场产生装置。该聚酰亚胺薄膜由上述方法制备而成。本发明通过电场实现了分子链的空间重排,增大了分子间的平均距离及改变了堆叠角度,极大地降低了电子跃迁的概率,从而在不改变化学结构的前提下,削弱了吸收可见光的生色基团的电子跃迁概率,实现了透光率的显著提升。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.