北京
国家知识产权局信息显示，上海芯上微装科技股份有限公司申请一项名为“投影物镜和曝光设备”的专利，公开号CN121763521A，申请日期为2025年5月。
专利摘要显示，本发明提供了一种投影物镜和曝光设备，该投影物镜包括第一透镜组、第二透镜组、孔径光阑、第三透镜组和第四透镜组；第一透镜组配置为匹配最大静态曝光视场直径和最大数值孔径；第二透镜组配置为校正场曲和畸变，第二透镜组具有正光焦度，且第二透镜组包括至少两片阿贝数大于或等于65的透镜；第三透镜组配置为补偿色差，第三透镜组具有负光焦度，且第三透镜组包括至少两片阿贝数大于或等于65的透镜和至少一片阿贝数小于50的透镜；第四透镜组配置为补偿视场相关的像差或者补偿二阶场曲和像散；第一透镜组、第二透镜组和第四透镜组的所有透镜均为全球面透镜。本发明可以有效增大曝光系统的视场尺寸，增大视场，降低曝光时间，实现更小的曝光分辨率。
天眼查资料显示，上海芯上微装科技股份有限公司，成立于2025年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本17531.5338万人民币。通过天眼查大数据分析，上海芯上微装科技股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息13条，专利信息1033条，此外企业还拥有行政许可19个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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