辽宁
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爱思助手消息，消息源 @phonefuturist 昨日在 X 平台发布推文，透露称苹果二十周年纪念款 iPhone 20 重磅设计。
01、1.1mm 极窄屏幕边框（黑边）
这里指屏幕四周显示黑边宽度（非中框厚度），比 iPhone 15P 系列（约 2mm+）大幅收窄近一半，视觉上几乎 “无边框”，配合四曲面屏进一步弱化边框存在感。
02、极致圆润边角 + 四曲面屏
放弃直角硬朗风格，机身四角做大弧度圆润过渡，屏幕四边（上下左右）均向中框自然弯曲（四曲面瀑布屏），整机像一整块无缝玻璃，握持更顺滑、无割手感。
03、屏下摄像头 + 屏下 Face ID（真全面屏）
彻底取消灵动岛/刘海，前置 1200 万摄像头 + Face ID 原深感组件全部隐藏于屏幕下方，正面无任何开孔，实现真正纯全面屏，Face ID 模块预计移至屏幕底部区域。
据最新供应链消息，苹果相关研发目前遭遇阻碍：光线难以完美穿透屏幕玻璃，屏下环境下传感器的识别准确率仍未达到量产标准。
但考虑到距离这款纪念版手机量产尚有 18 个月左右，苹果研发团队具备充足的缓冲空间，有望逐步优化并解决这些技术层面的不足。
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