北京
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国家知识产权局信息显示，美商福昌公司申请一项名为“用于制造光掩模的系统、方法和程序产品”的专利，公开号CN121721896A，申请日期为2021年4月。
专利摘要显示，用于从所获得的与在晶片上显示缺陷的光掩模相关的图案信息构建光掩模的方法和系统。对图案信息进行空间域分析，使得可以生成校正光掩模结构并可以将其应用于光掩模布局。使用校正光掩模结构来构建光掩模。验证了光掩模的有效性。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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