国家知识产权局信息显示,京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“一种发光器件及其制作方法”的专利,公开号CN121646128A,申请日期为2024年8月。
专利摘要显示,本发明公开了一种发光器件及其制作方法,通过在第二电极上方引入包括电子给体的修饰层,该修饰层可以通过加热、紫外光照或电离处理等方式使得电子给体传输到电子传输层中,即修饰层可以提供电子给体至电子传输层,由于电子给体的半径较小,一般小于70pm,首先可以进入第二电极的金属原子晶格内,并通过金属中的缺陷、位错等通道释放出电子给体至电子传输层,从而提高发光器件中电子电流密度,增加电子传输层的导电能力,进而降低发光器件的工作电压,减小发光器件内部焦耳热的产生,从而使发光器件的寿命大幅度提高。
天眼查资料显示,京东方科技集团股份有限公司,成立于1993年,位于北京市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3741388.0464万人民币。通过天眼查大数据分析,京东方科技集团股份有限公司共对外投资了73家企业,参与招投标项目300次,财产线索方面有商标信息777条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可47个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.