北京
国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“一种发光器件及其制作方法”的专利，公开号CN121646128A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本发明公开了一种发光器件及其制作方法，通过在第二电极上方引入包括电子给体的修饰层，该修饰层可以通过加热、紫外光照或电离处理等方式使得电子给体传输到电子传输层中，即修饰层可以提供电子给体至电子传输层，由于电子给体的半径较小，一般小于70pm，首先可以进入第二电极的金属原子晶格内，并通过金属中的缺陷、位错等通道释放出电子给体至电子传输层，从而提高发光器件中电子电流密度，增加电子传输层的导电能力，进而降低发光器件的工作电压，减小发光器件内部焦耳热的产生，从而使发光器件的寿命大幅度提高。
天眼查资料显示，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3741388.0464万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了73家企业，参与招投标项目300次，财产线索方面有商标信息777条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可47个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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