北京
国家知识产权局信息显示，江苏山水半导体材料有限公司申请一项名为“一种含石墨烯纳米片的晶圆抛光液及其制备工艺”的专利，公开号CN121610193A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明涉及研磨液技术领域，具体为一种含石墨烯纳米片的晶圆抛光液及其制备工艺，其由如下重量份原料组成：磨料基体；石墨烯改性磨料；氧化剂；络合剂；金属腐蚀抑制剂；pH调节剂；分散稳定剂；界面改性剂；缺陷修复剂；缓蚀增效剂；润湿性调节剂；抗团聚剂；去离子水。本发明通过石墨烯改性磨料的引入及多组分协同设计，兼具高抛光效率、低腐蚀速率与优异的分散稳定性，相较于传统抛光液，Cu/Co腐蚀速率降低60%以上，铜表面粗糙度Ra≤0.5nm，抛光后晶圆无明显微划伤，石墨烯纳米片的润滑特性与机械研磨特性协同，使铜/钴去除速率比稳定在1:1±0.1，有效避免碟形坑、蚀坑缺陷。
天眼查资料显示，江苏山水半导体材料有限公司，成立于2020年，位于无锡市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3236.04万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏山水半导体材料有限公司参与招投标项目6次，专利信息52条，此外企业还拥有行政许可13个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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