北京
国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“抛光方法、电子设备及存储介质”的专利，公开号CN121608055A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本申请提供一种抛光方法、电子设备和存储介质。抛光方法包括：设置工艺模式；基于工艺模式及与三个承载头对应的三个限位件的位置进行晶圆抛光，包括：在工艺模式为双盘抛光且第一抛光盘抛光时长大于第二抛光盘时，逆时针移动三个承载头，使第一承载头依次在第一抛光盘、第二抛光盘上完成抛光后，不等待上游的在第一抛光盘上进行抛光的第二承载头，而继续逆时针移动经过跨第二交互杯可活动的第一限位件至第二交互杯处卸载晶圆；在工艺模式为双盘抛光且第二抛光盘抛光时长大于第一抛光盘时，逆时针移动三个承载头，第一抛光盘上的承载头完成抛光后移动到第三交互杯处保湿以等待第二抛光盘上的承载头完成抛光。
天眼查资料显示，华海清科股份有限公司，成立于2013年，位于天津市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本35365.1991万人民币。通过天眼查大数据分析，华海清科股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目257次，财产线索方面有商标信息65条，专利信息791条，此外企业还拥有行政许可31个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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