北京
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国家知识产权局信息显示，长春理工大学中山研究院;中山吉联光电科技有限公司申请一项名为“一种高耐磨防眩减反射光学薄膜及其制备方法”的专利，公开号CN121559645A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明涉及光学薄膜技术领域，具体地说，涉及一种高耐磨防眩减反射光学薄膜及其制备方法。其包括光学基底、结合层、减反射功能层和复合防眩耐磨层，其中，复合防眩耐磨层包括如下原料：纳米氧化铝颗粒、纳米二氧化硅颗粒、硅烷偶联剂和水解催化剂。本发明中，通过采用二氧化铪‑三氧化二铝混合物与二氧化硅交替构筑梯度折射率膜系，从本质上消减了界面应力；同时，设计了一种由勃姆石纳米棒、纳米二氧化硅与硅烷偶联剂构成的复合防眩耐磨层，使得薄膜在实现宽谱段超低反射与有效防眩的同时，获得了卓越的机械耐久性，从根本上克服膜层易剥离与防眩微结构易磨损的行业难题，成功制备出适用于苛刻环境与高频交互场景的高性能、长寿命光学薄膜。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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