北京
国家知识产权局信息显示，中芯集成电路（宁波）有限公司申请一项名为“一种滤波器的形成方法”的专利，公开号CN121547011A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明提供了一种滤波器的形成方法，其中，形成方法包括：提供一衬底；在衬底上连续沉积电极金属层和多功能金属层；对多功能金属层进行刻蚀形成初始质量块；对初始质量块、电极金属层和多功能金属层同时进行刻蚀，以得到多个相互交叉设置的叉指电极和设置在叉指电极上的质量块。本申请实施例仅需一次连续金属沉积与两次刻蚀即可同时制作出叉指电极和质量块，简化了生产流程；同时，结合自对准工艺的应用，有效保障了质量块与叉指电极之间的叠层精度要求。
天眼查资料显示，中芯集成电路（宁波）有限公司，成立于2016年，位于宁波市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本473304.347718万人民币。通过天眼查大数据分析，中芯集成电路（宁波）有限公司参与招投标项目37次，财产线索方面有商标信息69条，专利信息513条，此外企业还拥有行政许可22个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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