北京
分享至
国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“流体处理结构、光刻设备、控制流体处理结构的方法、控制光刻设备的方法和制造半导体器件的方法”的专利，公开号CN121548777A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本文公开了一种用于光刻设备的流体处理系统，其中，所述流体处理结构被配置成将液体至少部分地限制到所述光刻设备的投影系统的最终光学元件与衬底之间的浸没空间，所述光刻设备的投影系统被配置成将经图案化的束投影在所述衬底上，所述流体处理结构包括：多个通道，所述多个通道被配置成朝向所述衬底供应流体和/或将流体提取离开所述衬底；流量调整器，所述流量调整器被配置成相对于所述通道移动以便部分地阻塞所述通道；致动装置，所述致动装置被配置成使所述流量调整器相对于所述通道移动；以及控制系统，所述控制系统被配置成控制所述致动装置，以便控制所述流量调整器对所述通道的部分阻塞。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
