北京
国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“可视化盖板及冷却水控制系统”的专利，公开号CN121531959A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了用于多腔室的可视化盖板及冷却水控制系统。该可视化盖板包括框架和分体式盖板组件。所述框架具有中间圆形结构、多个径向加强筋、外缘以及多个镂空区域，每个镂空区域由两个相邻的径向加强筋、所述中间圆形结构的外周的一部分以及所述外缘的一部分限定；所述径向加强筋的位置对应于两个相邻腔室的间隔位置；多个镂空区域的个数与所述多腔室的腔室个数匹配，每个镂空区域的形状与所述腔室的形状匹配；所述框架上设置冷却水路。所述分体式盖板组件具有多个可视化盖板单元，各可视化盖板单元独立安装于各镂空区域。
天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息479条，此外企业还拥有行政许可16个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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