北京
国家知识产权局信息显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司申请一项名为“一种版图修正方法”的专利，公开号CN121522950A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明提供了一种版图修正方法，包括获取版图信息，包括原始版图信息和待修正版图信息，所述版图包括原始版图和对所述原始版图修改后的待修正版图，所述原始版图和所述待修正版图上包括不同图案，所述原始版图信息和所述待修正版图信息包括不同层级结构的节点，所述节点代表版图上不同图案区域，所述图案区域包括一个或者多个图案，所述原始版图信息和所述待修正版图信息的层级结构相同、以及节点数量相同；获取版图信息中目标差异区域位置信息；搜索版图信息中完全包含目标差异区域的最小节点；获取最小节点的图案区域的位置信息。本公开版图修正方法减少了改版品版图的修正时间，提高了流片速度。
天眼查资料显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2046092.7759万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华虹宏力半导体制造有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目930次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可429个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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