北京
国家知识产权局信息显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请一项名为“一种方形基板双面UV照射清洗装置”的专利，公开号CN121531954A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明属于半导体设备技术领域，具体地说是一种方形基板双面UV照射清洗装置，包括光源、主结构箱体、照射工艺腔体边框、基板承接升降组件、承片台、密封环、承片台升降组件、X轴移动组件、基板翻转组件。本发明使用时仅需对承片台、密封环、照射工艺腔体边框以及盖在照射工艺腔体边框上的光源外壳的底部所包围形成的照射工艺空间进行气体排出，所需排出气体的量大幅度减少，有效减少清洗作业耗时。本发明通过基板承接升降组件、承片台、密封环、承片台升降组件、X轴移动组件、基板翻转组件的设置，可在主结构箱体中即能完成方形基板的传递及翻面动作，从而能够高效完成方形基板的顶面及底面的UV照射清洗，提高设备运行效率。
天眼查资料显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司，成立于2002年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本20162.7296万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目329次，财产线索方面有商标信息32条，专利信息669条，此外企业还拥有行政许可67个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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