北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于控制源材料的源容器、光源、EUV利用系统和方法”的专利，公开号CN121511657A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，提供了激光产生等离子体源的源容器，该容器包括收集器区域和中间焦点（IF）区域，其中该容器被配置为提供至少两个不同温度区，其中包括IF区域的温度区比包括收集器区域的温度区更热。还提供了包括这样的源容器的光源和EUV利用系统。还描述了用于控制源容器内的源材料的方法，以及这样的源容器、光源或EUV利用设备或方法在光刻方法或系统中的用途。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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