国家知识产权局信息显示,华芯巨数(杭州)微电子有限公司申请一项名为“一种版图违例修复指导方法、设备、介质及产品”的专利,公开号CN121503420A,申请日期为2025年10月。
专利摘要显示,本发明涉及集成电路设计与光刻制造模拟领域,特别涉及一种版图违例修复指导方法、设备、介质及产品。版图违例修复指导方法步骤如下:输入初始版图及待检查的物理设计规则,将初始版图划分为多个版图区块,对每一版图区块进行物理设计规则检查;若存在设计规则违例,则分析违例周边的图形属性,获得违例成因;根据违例成因输出违例修复指导信息。直至所有版图区块均完成规则检查,输出每一版图区块的违例修复指导信息。其中,图形属性包括固定图形、引脚和端口的接入路径、布线网络。本发明的电子设备、计算机存储介质及计算机程序产品与版图违例修复指导方法具有相同的有益效果。
天眼查资料显示,华芯巨数(杭州)微电子有限公司,成立于2020年,位于杭州市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2702.5万人民币。通过天眼查大数据分析,华芯巨数(杭州)微电子有限公司共对外投资了1家企业,财产线索方面有商标信息15条,专利信息44条,此外企业还拥有行政许可7个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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