北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“光刻设备以及相关方法”的专利，公开号CN121464396A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，一种光刻设备，包括：照射系统，被配置为将辐射束引导到图案形成装置上以生成图案化的辐射束，所述图案形成装置包括在衬底的曝光期间待遮蔽的区域；支撑结构，被配置为支撑所述衬底；投影系统，被配置为将所述图案化的辐射束投影到所述衬底上；以及掩模装置，其中所述掩模装置的至少一部分被配置为在所述衬底的曝光期间至少部分地对所述图案化的辐射束的、由所述图案形成装置的区域反射的部分进行掩蔽，所述掩模装置的所述部分被布置在所述投影系统和所述支撑结构之间。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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