北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料股份有限公司申请一项名为“具有停留时间调节组合的等离子体系统”的专利，公开号CN121444202A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，一种等离子体处理设备。所述等离子体处理设备可包括：等离子体腔室，用于在等离子体腔室中界定等离子体；以及提取开孔，沿等离子体腔室的第一侧布置，提取开孔用于界定经由提取开孔提取的离子束。等离子体处理设备可还包括停留时间调节总成，所述停留时间调节总成耦合至等离子体腔室的与第一侧不同的部分，其中停留时间调节总成包括泵送导管，泵送导管在第一端上连接至等离子体腔室且界定泵送路径，泵送路径用于与提取开孔分开地自等离子体腔室直接提取气态物种。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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