北京
国家知识产权局信息显示，华芯程（杭州）科技有限公司申请一项名为“基于化学机械抛光的光学邻近效应校正仿真方法、装置、程序产品及终端”的专利，公开号CN121432797A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请提供一种基于化学机械抛光的光学邻近效应校正仿真方法、装置、程序产品及终端，通过化学机械抛光工艺仿真工具，获得晶圆表面的三维轮廓高度图，并通过构建增强型光刻模型来感知晶圆表面的形貌变化，并在增强型光刻模型可以感知形貌变化的基础上通过光学邻近修正模型进行光学邻近效应校正和光刻仿真验证。本发明从根本上解决了传统OPC模型因忽略CMP形貌而存在的系统性误差，大幅提升了光刻仿真预测的准确性，并在光刻仿真验证阶段通过多次设计‑工艺协同的优化处理闭环，在流片前即可前瞻性地发现并消除由复杂工艺交互效应引发的制造缺陷，从根本上降低了开发风险与成本。
天眼查资料显示，华芯程（杭州）科技有限公司，成立于2021年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1010.688237万人民币。通过天眼查大数据分析，华芯程（杭州）科技有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息63条，专利信息150条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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