北京
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国家知识产权局信息显示，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司申请一项名为“光学邻近修正方法和系统、设备、存储介质及计算机程序产品”的专利，公开号CN121432793A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，一种光学邻近修正方法和系统、设备、存储介质及计算机程序产品，修正方法包括：提供设计版图，包括前层掩膜版和当层掩膜版；获取当层掩膜版在前层掩膜版周围区域不同位置的模拟曝光膜层厚度；基于不同位置的模拟曝光膜层厚度，对当层掩膜版进行光学邻近修正处理。本发明有利于提高光学邻近修正处理的效果。
天眼查资料显示，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目129次，财产线索方面有商标信息150条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可446个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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