北京
国家知识产权局信息显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请一项名为“一种改善显影工艺的装置及干式显影工艺方法”的专利，公开号CN121432819A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明属于半导体显影工艺技术领域，具体地说是一种改善显影工艺的装置及干式显影工艺方法。本发明在显影液浸泡阶段同时进行干式显影工艺阶段，能够形成立体置换显影液方式，可提升显影液浓度均一性方式，进而提升显影工艺线宽均一性，同时一方面避免破坏液膜表面张力而使显影液大量反流至晶圆背部造成污染，一方面有效面对沟槽、深孔图形避免沟道底部显影不足或孔洞未打开。本发明的超声波喷气组件可在定影阶段通过其内部型腔利用空腔流激振荡原理喷出气体并产生高频声波，在喷出气体及声波共同作用下可以去除晶圆的光阻残留以达到清洁的效果并减少工艺缺陷，有效避免现有技术中使用定影液冲洗副反应物时会遇到的问题。
天眼查资料显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司，成立于2002年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本20162.7296万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目329次，财产线索方面有商标信息32条，专利信息662条，此外企业还拥有行政许可67个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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