北京
国家知识产权局信息显示，常州纵慧芯光半导体科技有限公司取得一项名为“清理装置及半导体设备”的专利，授权公告号CN223811351U，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本实用新型属于MOCVD外延片生产技术领域，公开了一种清理装置及半导体设备。该清理装置包括底座、上盖和承托件，底座的侧壁设置有第一进气口，上盖与底座转动连接，上盖能密封盖设在底座上，并与底座合围形成容纳空间，上盖的顶面设置有第二进气口和排气口，承托件转动安装于底座并收纳于容纳空间，第一进气口与承托件的侧面正对设置，承托件用于承托待清理件。通过设置第一进气口、第二进气口和排气口，在待清理件转动下，同步完成对待清理件的吹扫清理，同时，吹扫下的杂质从排气口排出，提高了对待清理件的清扫效率，降低了人工成本，同时改善了清理效果，进而避免产品良率损失。本实用新型提供的半导体设备包括上述清理装置。
天眼查资料显示，常州纵慧芯光半导体科技有限公司，成立于2015年，位于常州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3167.241247万人民币。通过天眼查大数据分析，常州纵慧芯光半导体科技有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目10次，财产线索方面有商标信息32条，专利信息239条，此外企业还拥有行政许可30个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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