北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“光学测量标记、光学测量系统和光刻设备”的专利，公开号CN121359081A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，一种用于成像系统的光学测量标记，包括反射区，所述反射区被配置成反射入射辐射以用于由所述成像系统形成所述光学测量标记的图像。所述光学测量标记包括扩散子结构，所述扩散子结构被配置成散射所述入射辐射以用于增加所述成像系统的数值孔径的照射。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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