北京
国家知识产权局信息显示，尼卡光学（天津）有限公司取得一项名为“一种曝光装置”的专利，授权公告号CN223808628U，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本方案，公开了一种曝光装置，用于曝光波导片中的全息光敏材料以形成体全息光栅。该曝光装置包括出光组件、棱镜和第一支承组件，出光组件用于向全息光敏材料出射信号光和参考光，信号光和/或参考光的光路上设有棱镜，棱镜设有入光面和出光面，波导片贴合于棱镜的出光面，信号光和/或参考光从棱镜的入光面垂直入射并从棱镜的出光面出射至全息光敏材料上，第一支承组件用于支承波导片，避免波导片与棱镜相对滑移。上述方案采用第一支承组件直接支承波导片，而不是通过支承棱镜间接支承波导片，使得波导片可以在竖直方向上得到有效定位，避免波导片因约束不足及自身重力作用而产生滑片，有利于确保曝光始终精确地发生在设计区域，提高产品良率。
天眼查资料显示，尼卡光学（天津）有限公司，成立于2022年，位于天津市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本174.1733万人民币。通过天眼查大数据分析，尼卡光学（天津）有限公司共对外投资了3家企业，财产线索方面有商标信息2条，专利信息42条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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