北京
国家知识产权局信息显示，浙江东开半导体科技有限公司申请一项名为“一种大流量场景下的高精度气体混配系统及其控制方法”的专利，公开号CN121266390A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明属于气体混配技术领域，尤其涉及一种大流量场景下的高精度气体混配系统及其控制方法，系统包括气源供给单元、一次混气单元、二次混气单元、混气控制单元及缓冲罐，一次混气单元通过主气管路的比例阀组实现不同气源的流量控制与初次混合，二次混气单元通过支气管路对浓度偏差进行补偿修正，形成双级闭环调节结构，混气控制单元基于浓度与流量的PID算法实时调整比例阀开度，实现浓度与流量的动态协同控制，系统在整定混气、正常混气及降流混气三种模式下可自动切换运行，并通过浓度检测结果判断是否启动二次混配或排放，实现了超大流量下高精度混配与浓度稳定控制，具有响应快速、精度高、气源利用率高的优点。
天眼查资料显示，浙江东开半导体科技有限公司，成立于2016年，位于杭州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本7469.3801万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江东开半导体科技有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目48次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息32条，此外企业还拥有行政许可19个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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