北京
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国家知识产权局信息显示，索利尼德光子学有限公司申请一项名为“用于线性和非线性光处理的多层光子结构”的专利，公开号CN121285762A，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，本公开涉及一种多层光子平台及其形成方法。该方法包括在衬底上形成由具有非线性材料特性的第一材料制成的一个或更多个第一光子层，其中每个第一光子层具有相应的第一层厚度。该方法还包括形成由第一材料制成的一个或更多个第二光子层，其中每个第二光子层具有相应的第二层厚度。此外，该方法包括在一个或更多个第一光子层和/或一个或更多个第二光子层的每两个连续布置的层之间形成由第二材料制成的中间包覆层。该方法还包括通过针对包括至少一个第一光子层和至少一个第二光子层的每个操作层对，将形成在该至少一个第二光子层中的相应的第二波导结构与形成在该至少一个第一光子层中的相应的第一波导结构对准，来形成一个或更多个操作层对。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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