北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于选择基本不规则图案布局的图案参考特征的方法”的专利，公开号CN121285775A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，公开了一种选择用于表征图案化工艺中的随机效应的一个或多个参考特征的方法，所述方法包括：获得与用于在所述图案化工艺中在衬底上图案化的图案相关的多个产品特征；获得与表征所述多个产品特征的随机效应的一个或多个随机参数相关的产品分布数据；选择一个或多个参考特征作为所述多个产品特征的适当子集，其中所述一个或多个参考特征被选择以根据参考分布数据优化所述产品分布数据的估计，所述参考分布数据已经从所述一个或多个参考特征被测量出。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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