北京
国家知识产权局信息显示，北京电子量检测装备有限责任公司申请一项名为“一种基于偏振透反射结合的掩膜缺陷检测系统”的专利，公开号CN121275756A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明涉及一种基于偏振透反射结合的掩膜缺陷检测系统，包括：激光器；第一偏振分束镜，用于对激光束进行偏振分束，生成P偏振光和S偏振光；透射光路，用于对P偏振光进行光学处理以及偏振态调节后投影至掩模版；反射光路，用于对S偏振光进行光学处理以及偏振态调节后投影至掩模版；成像光路，用于在P偏振光从掩模版透射时进行成像，得到透射图像，以及在S偏振光从掩模版反射时进行成像，得到反射图像；存储运算模块，连接成像光路，用于对透射图像和反射图像进行存储及运算，以分析出掩模版是否存在缺陷。本发明采用透射与反射双偏振光路成像，可以同时、有效地检测出各类掩模版缺陷。
天眼查资料显示，北京电子量检测装备有限责任公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本15550万人民币。通过天眼查大数据分析，北京电子量检测装备有限责任公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目73次，专利信息126条，此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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