北京
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国家知识产权局信息显示，EV集团 E·索尔纳有限责任公司申请一项名为“用于脱离印模的方法和装置”的专利，公开号CN121254559A，申请日期为2019年12月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于使印模(17)与基底(12)、尤其与主印模(12)、与压印料(11)和/或与产品脱离的方法，其中，使印模(17)沿基底(12)的方向变形，以便使印模(17)与基底(12)脱离。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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