近日,台湾政治大学教授、评论员赖岳谦在一次访谈中指出,如果中国真的自主研制出先进光刻机,那么就意味着全球光刻机霸主ASML的时代将走向终结。他甚至用美国扫地机器人品牌iRobot的命运做比喻,认为一旦中国在这一核心设备领域实现突破,ASML可能会面临市场失守甚至倒闭,被其他企业瓜分技术资源的命运。这样的观点引发了业界和公众的热议。本文将从现实技术、市场格局、产业政策等多个维度,对这一观点进行深入分析,让读者理性理解这场关于中国光刻机与ASML未来竞争的讨论。
一、光刻机的战略地位:为何如此关键?
光刻机是制造集成电路(芯片)过程中最核心的装备之一,其作用相当于“芯片的笔”,能将事关性能和能效的电路图案准确“写”到硅晶圆上。尤其是极紫外光刻机(EUV),因其能够实现7纳米及以下先进工艺被视为全球芯片产业的“顶级通行证”。目前,全球几乎所有最先进芯片制造都依赖荷兰ASML的EUV设备,而中国因受美国及盟友的出口限制无法购买这些先进设备。
这也是为何赖岳谦及许多观察者会强调一旦中国实现先进光刻机突破,就可能重塑全球芯片制造格局的原因。
二、中国光刻机的现状:从追赶到突破边缘?
1. 从追赶到自主研发的阶段性成果
长期以来,中国光刻机技术主要集中在成熟制程设备和中低端市场,但在EUV领域高度依赖进口。过去几年,中国政府和企业投入巨量资源攻坚光刻机技术,并在多个方向展开努力:
国内研究团队通过激光放电等离子体(LDP)等技术路线尝试替代ASML的激光产生等离子体(LPP)技术,希望为EUV光源寻找新的突破方向。
多家企业与科研院所在DUV(深紫外光刻机)及相关关键部件上取得进展,部分型号已用于成熟工艺生产。
引发关注的是,中国官方和行业内部报道称已在深圳等地建成原型EUV机器,目标实现芯片生产能力。据路透等媒体报道,这个项目类似国家级“曼哈顿计划”,由华为等企业牵头,已有前ASML工程师参与开发。
这些成果表明,中国光刻机研发已从长期跟随阶段向尝试冲击先进工艺迈进,尽管距离成熟商业化仍有显著差距。
三、ASML的现实优势与对中国的态度
1. 稳固的技术壁垒
ASML之所以能够长期保持领先,是因为其在EUV光学、机械精密和软件控制等多个领域积累了深厚的技术能力。据公开资料显示,ASML及其合作伙伴蔡司已经拥有上千项相关专利,这些专利形成了极高的技术门槛。
同时,ASML并不只是卖设备,它构建了一个由全球供应商紧密配合的高端生产和服务生态,这使得单纯模仿变得极其困难。
2. 现实中的市场表现与战略
即使在出口受限的背景下,ASML在全球市场整体仍表现稳健。2025年公司仍保持营收增长并获得大量订单,尤其在先进逻辑和存储领域需求旺盛。
此外,ASML还尝试在中国市场培养技术人才与合作关系,例如通过举办科研类活动来发掘本地工程师,表明其并未将中国市场完全视为对立方。
这些现实状况都显示ASML并非马上面临“倒闭危机”。
四、中国产业政策与全球分工格局的变化
中国官方持续推动半导体自主可控战略的重要节点政策近期也引起关注。例如,据报道,中国要求新建或扩产的芯片制造项目至少使用50%国产设备,这一政策正逐步推动国内厂商替代国外供应商。
同时,国内光刻机企业并非单一路线,而是在低端、中端和尝试高端三条技术线并行发展,这种多元化尝试旨在规避单一技术路线受制于人的风险。
五、分析与结论:倒闭?还是竞争格局演变?
回到赖岳谦的观点,他提出一个极端假设——中国一旦完全掌握先进光刻机技术,ASML可能像iRobot一样因失去市场而倒闭。这个比喻有其启发性,但从现实产业技术与市场格局来看,是一种情绪化的极端推断:
技术突破不等于立刻替代:中国目前在EUV领域的原型机和研发成果十分值得关注,但距离成熟、稳定、可量产的技术路线仍需时间验证,更无法在短期内全面取代ASML在高端市场的核心地位。
市场竞争不是“零和游戏”:全球光刻机市场巨大,从成熟制程、中端市场到未来更先进光学设备,都有不同层次的需求。即便中国光刻机最终能在某些领域赶上或领先,这更可能是市场分工的重新划分,而不是单一竞争对手的“倒闭”。
国际贸易与政策仍深度影响行业结构:包括出口管制、国内采购政策等都将在未来很长时间继续影响行业演进。
因此,与其说ASML会倒闭,不如认为全球光刻机市场有可能会迎来更多玩家与更多路线的竞争,中国企业的进步必将促使整个行业加速创新和重塑竞争格局,而不是单纯“淘汰一家公司”。
无论是评论员的观点还是市场的讨论,都反映出一个现实:光刻机不仅是技术设备,更是全球科技竞争的重要象征。
对于中国而言,掌握先进光刻机技术无疑是产业自主化的关键一步,对ASML而言,应对更多竞争力量既是挑战也是激发创新的动力。
最终,技术发展从未由单一力量决定,而是由市场、创新、政策以及国际合作、多方竞争共同塑造。
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