![]()
![]()
![]()
![]()
![]()
![]()
![]()
![]()
![]()
案例:半导体材料生产企业含氟废气处理项目
项目背景
该企业是国内主要的半导体用特种气体和材料供应商,生产过程中产生大量含氟废气,传统处理方法难以达到日益严格的氟化物排放标准。
废气成分及来源
废气主要来自:
特种气体生产环节:NF₃、CF₄、C₂F₆等
材料制备环节:HF、SiF₄等
设备泄漏气体:F₂、WF₆等
废气特点是毒性大、处理难度高、部分气体化学性质极为稳定。
处理工艺流程
针对含氟废气的特殊性,创新采用了以下工艺:
高温裂解系统
两级燃烧室设计(初级800℃,二级1200℃)
添加辅助燃料确保完全分解
停留时间>2秒
急冷洗涤系统
从1200℃急速冷却至80℃以下
防止二噁英类物质生成
采用专用防腐材料
深度净化系统
两级碱液洗涤(NaOH+Ca(OH)₂)
添加专用催化剂促进反应
除雾器去除气溶胶
污泥处理系统
废水调节pH至中性
添加CaCl₂沉淀氟化物
板框压滤机脱水
污泥按危险废物处置
应急系统
备用活性炭吸附装置
废气旁路系统
24小时在线监测
最终效果
系统运行数据表明:
氟化物总去除率>99.9%
排放浓度<1mg/m³(以F计)
年处理含氟废气约300万m³
无二次污染产生
系统运行稳定,维护周期达6个月以上
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.