甘肃
最近刷到日媒报道说，中国光刻机可能要迎来实质性突破，还预测我们会成为继荷兰、日本之后第三个能独立造光刻机的国家。
关注国产芯片产业的朋友们都知道，这种报道背后反映出来的并不是突然性的爆发，而是我们早早就选对了路。
即：没有跟着荷兰ASML公司去死磕EUV光刻机，而是把重心放在了成熟制程和特色工艺里研发。比如，20nm左右制程工艺的晶圆产业。
不过经常在评论区看到。很多人觉得造不出EUV光刻机就不算突破，其实根本不是这么回事。因为现在智能汽车产业、5G基站、智能家居、出口贸易等等这些刚需领域，诚如尖端的7nm、5nm、3nm等芯片的实际用处有一定的局限性，反而需要大量稳定、便宜的成熟制程芯片。
正是国内厂商就抓住了这些实际需求，比如已经交付的化合物半导体光刻机，虽然在制程上不是最前沿的，但兼容性很强，刚好能满足碳化硅、氮化镓这些功率器件的需求。
重点是在满足国内市场的基础上，还实现了数规模化的出口。经常看到一些外媒很夸张的表示，我们在成熟芯片市场占比近三分之一。
由此可见，并不是空穴来风。
不管是日媒还是别的媒体，他们最清楚自己的软肋，日企在光刻胶、核心部件上有优势，但中国现在不仅在造设备，还在补全产业链。比如光刻胶，国内企业已经有突破了，还造出了28nm以下精度光刻机用的冷却部件，已经量产了。
以前日本企业靠对华出口赚得盆满钵满，现在我们自己能造了，不仅安全性自主性更高，关键成本更低，把价格打下来，随着时间的推移，他们自然也就慌得一批。
从咱们实际应用的情况来看，EUV光刻机也越来越少被提及，不管出于什么原因，我们走的是“稳扎稳打”的自主化路径，先把成熟制程的生态建起来，积累经验和资金，再慢慢向高端突破。
而且实际的技术发展要比网上关注到的信息是更超前的，有些是不能被媒体报道的。
所以日媒的关注，其实是给我们提了个醒：技术突破不一定非要“硬碰硬”，找到适合自己的赛道更重要，未来就算不依赖EUV，照样能在半导体领域拥有话语权。
毕竟市场不会说谎，谁能解决实际需求，谁就能笑到最后。
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