北京
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国家知识产权局信息显示，同方威视技术股份有限公司申请一项名为“射线扫描成像系统”的专利，公开号CN121068658A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本公开提供了一种射线扫描成像系统，成像通道沿第一方向延伸；第一探测器用于探测透射射线源透射过待测物体的透射射线；第二探测器用于探测由背散射线源产生并经待测物体散射形成的背散射线，透射成像组件与背散射成像组件沿第一方向排布；散射抑制组件设背散射线源与成像通道之间，散射抑制组件包括多个屏蔽板，形成于任意相邻屏蔽板之间的射线通道，多个屏蔽板与第一方向之间的夹角被配置为屏蔽板能阻挡透射射线散射形成的前散射线的至少一部分入射至第二探测器，多个射线通道被配置为允许背散射线的至少一部分通过多个射线通道入射至第二探测器；解决了现有透射背散双技术的成像系统中，背散系统和透视系统产生的散射射线相互影响的问题。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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