美荷两国同时发声，对中国独立研发的光刻机技术，给予强烈的批评

美国和荷兰这两年对中国光刻机的批评声音越来越密，讲话的火力也越来越足。表面说的是“国家安全”“技术秩序”，但真正让他们紧张的，是一句他们不愿在公开场合讲的话：中国这套光刻机体系，到底是不是已经能自己做出来了。

美国那几家专门盯中国技术的智库，从 2023 年开始几乎不间断发布报告，把国产设备的技术指标、结构细节一条条拆开，对照现有产品，暗示“相似度过高”，怀疑存在逆向工程；过去出现过的知识产权纠纷，也被当成证据反复摆在桌面上。

荷兰官员在媒体上强调，全球专利体系必须被尊重；美荷在多次会议上又强调技术转移要“透明”“可追踪”，矛头全部对准中国的自主路线。等到这些讨论最终写进出口管制系统，这场争议就不再是口水战，而变成了实打实的政策对抗。

之所以绕着一台光刻机吵成这样，是因为整个半导体产业现在就是全球科技竞争的正中心，而光刻机又是造芯片的核心装备。没有它，就没有任何成熟的逻辑电路能在硅片上落下去。深紫外（DUV）光刻机长期被荷兰 ASML 和日本几家企业把控，高端型号更是几乎被 ASML 垄断，中国过去处于典型的“被动依赖”状态：关键设备一旦被卡，整条产线全停。

正因为这种痛感太强，从 2010 年代开始，中国选择把路线拉长，从光学系统、控制软件到机械结构等最底层环节一点一点啃，把一条过去完全空白的装备体系重新搭起来，目标很直接，就是减少对外依赖、摆脱“卡脖子”。

随着中国的推进，美国和荷兰的反应也越来越激烈。全球 5G 和 AI 应用带动芯片需求飙升，中国市场占比大，一旦对华限制收紧，设备更新周期马上被拉长。从 2023 年开始，美荷几乎是同步发力：2023 年 3 月，荷兰贸易部长通过向议会递交信件的方式宣布对先进半导体设备实施新一轮出口管制，把部分深紫外光刻机纳入审查，理由是维护技术安全、防止敏感技术流向竞争方；

美国商务部官员在国会听证会上公开支持，强调这些设备关系到国家安全，对中国在这条技术线上取得的进步表示担忧。3 月 8 日，荷兰政府又发布正式声明，明确特定型号的深紫外系统对华出口必须申请许可；美国同一时期更新实体清单，新增多家与中国相关的供应商。

6 月 30 日，荷兰发布更细致的管制细则，自 9 月 1 日起正式生效，重点覆盖深紫外浸没系统，要求企业在申请出口许可时必须提交最终用户和用途声明。美国在 2023 年 10 月进一步扩大管控，将配套软件和设备维护一并纳入控制清单。

到了 2024 年 4 月，美国再次出手，敦促荷兰停止为中国“敏感设备”提供维修服务，直接影响在役设备的使用寿命。9 月 6 日，荷兰扩大全球对华管制范围，把更多型号和相关服务纳入限制；不久后的 9 月 9 日，中国外交部作出回应，指出这些做法干扰正常贸易往来。

到了 2024 年 9 月 9 日，中方再次发声，明确谴责荷兰相关措施加深科技脱钩。2025 年 1 月 17 日，荷兰政府公布最新出口数据，将 ASML 对华销售中的大部分敏感货物全部排除在统计之外，强调管制执行“非常严格”。ASML 随后确认，荷兰政府撤销了部分对华出口许可，实际影响集中在少量小批次订单上。

荷兰企业对华销售因此明显下降，但在其他市场订单托底下，全球整体订单规模仍保持相对稳定。在这一连串动作推动下，全球供应链被迫重排，亚洲其他国家一边承接外溢订单，一边调整自身产业策略。

但外部压力越大，中国的自主路线反而越坚定。上海微电子装备集团是攻关主力，它走的不是捷径路线，而是从基础光学系统做起，把分辨率、稳定性、振动控制、污染管理这些过去被认为“难以补齐”的环节一项项啃掉。十几年不断试错、推倒重来，在上海郊区建起洁净室，把样机拉进去跑长时间压力测试；团队从几十人扩到几百人，累计投入数十亿元资金，与高校合作开发光学模拟与控制软件。这些不容易被看见的底层活，才真正决定一台光刻机能不能站得住。

到 2023 年初，上海微电子把一台能面向市场的量产机推了出来——SSA600 系列深紫外浸没式光刻机。设备采用 193 纳米激光光源，搭配 1.35 数值孔径的浸没式镜头，在工艺能力上可实现 28 纳米线宽。整机在连续运行测试中通过验证，每小时可处理上百片晶圆，关键指标达到量产级要求。这些配置在深紫外浸没式系统里属于主流水平，但放在国产设备上，就是第一次让这条路线完整跑通。

中芯国际等企业并没有停留在“参观”的层面，而是直接拉出产线做兼容性测试，通过调整工艺参数，让国产设备真正嵌入生产流程。中小晶圆厂则看重整机和维护成本的优势，试用意愿更强，实际用下来总体运行情况顺畅。随着试点不断扩大，国产设备在 28nm 这一国内需求最大的中端档位上，从“临时补位”变成“现实选项”，降低了对进口装备的刚性依赖，也让本土产业链的整体稳定性更强。

这一步，正是美荷最紧张的关键点。美国主导的多边机制本来就旨在封住关键技术的扩散，荷兰作为重要供应国，在美国持续施压下不断收紧政策。ASML 高层在 2023 年的公开表态中承认，新规生效前部分订单仍可申请许可，但实际能获批的数量非常有限。中国企业则沿着自己的路线继续推进，计划在 2025 年推出支持更精细节点的升级版，通过多重图案化工艺，把设备可覆盖的工艺能力向 7 纳米靠拢。

与此同时，中国并没有只押注一条技术路线。部分国产光刻设备已经出口到东南亚，帮助当地工厂完成工艺升级；背后是国家基金与企业共同投入的大规模研发计划，累计投入体量不小。国产光刻胶、掩膜版等关键材料也在同步突破，性能不断提升，污染控制、振动管理持续优化。在各类行业展会上，国产设备和材料的现场演示开始吸引海外买家，多位国际半导体专家对这些进展表示认可，提出在标准和规则统一的前提下，可以进一步开展技术交流。

国际媒体持续跟进报道美荷官员的公开表态，各方分歧被不断放大；荷兰议会内部多次围绕出口政策是否“伤敌一千、自损八百”展开辩论，美国国务院的公开文件则详细记录了与荷兰就具体管制条款展开协调的细节。事件推进的结果之一，是市场格局被悄然改写：中国设备填补了中端市场的空白，全球订单分布比过去更加分散。

在这场拉锯背后，真正的争夺点既是知识产权，也是安全话语权。美国的相关报告一方面承认中国在光刻领域的进步速度很快，另一方面又用“进步速度异常”这样的说法提出质疑，并列出多项涉嫌违规的案例。部分荷兰企业在自己的内部报告中承认，对华业务在管制中出现下滑，但同时强调不能削减对新一代装备的创新投资，否则会动摇自身技术优势的根基。

中国这边则是从干式光刻一步步做到浸没式，一边在设备结构上持续优化振动控制和污染管理，一边用国产材料替代更多进口环节。相关企业把设备和材料拿到行业展会上做演示，吸引海外买家实地对比。

2024 年上半年，上海微电子对 SSA 系列的软件系统进行了升级，提高自动化与稳定性，多项核心算法完成专利申请，进一步用专利把关键技术环节锁住。2025 年，中国的纳米压印光刻工具开始发货，相关研发涉及超过 300 家企业，在某些方向上对标甚至“挑战”现有的 EUV 体系。

先进光刻技术会议上，中国团队展示了电子束图形化等方案，专家评价认为，这些路线短期内不太可能取代主流，但可以有效补齐过去长期存在的短板，让整个产业链更完整。多家智库的研究也指出，中国在光刻胶、掩膜版等材料环节的性能明显提升，产业链的完整度一步步往上走。

同年，一个重要节点出现在光刻材料端。2025 年 10 月 27 日，中国研究者对外披露本土光刻材料取得新突破，预计 2025 年相关市场规模将达到 123 亿元。用于芯片缺陷检测的工具也在升级，冷冻电镜被更多用于精确定位晶圆上的微小缺陷，使检测成本有所下降。全球范围内，各国都在关注中国的动员能力：超过 300 家企业同时投入先进研发，任何一个环节的突破，都可能改变下一轮全球竞争格局。

对美国和荷兰来说，这些“批评”最终都落实为一条条出口管制，本质是护住它们花了几十年构建起来的技术壁垒；对中国企业来说，更现实的应对不是口头上回击，而是在压力下把设备做到能稳定上产线，把材料做到能减少依赖，把链条扎得更稳。市场观察普遍认为，管制在短期确实拖慢了中国的节奏，但同时也在倒逼本土替代加速推进，产业格局因此变得更加多元。

国际合作怎么在安全和开放之间找到平衡，直接关系到科技进步能不能真正惠及全球，而不仅仅服务于少数技术强国。产业链重构的过程中，中小玩家也获得了更多切入缝隙的机会。中国的光刻机路线还很长，但这条路已经不再是那条只能靠买、没有选择的旧路，而是在持续的外部压力和内部投入之下，一步一步走成自己的技术周期。