英特尔18A制程率先量产 暂时领先于台积电N2节点

英特尔本周宣布，其Panther Lake处理器已在Fab 52晶圆厂使用18A工艺节点进入量产阶段。据悉，18A是首个达到大规模量产的2纳米级工艺节点，这一里程碑让英特尔在时间上领先于台积电N2以及三星SF2节点。

然而，“率先”并不意味着英特尔能够长期保持领先，客户、合作伙伴及投资者会关注英特尔是否能够稳定实现参数良率、控制单元制造成本，并将18A工艺推广至更多计算模块之上。目前，英特尔已公布缺陷密度与早期功能测试的改进，但尚未披露能持续达到功耗、性能与主频目标的全面参数良率数据。首批出货与产能爬坡情况，将决定此次量产对于英特尔制造业复兴究竟是象征意义还是实质突破。

在晶体管层面，18A引入了两项重要创新：RibbonFET全环绕栅极晶体管与PowerVia背面供电技术。RibbonFET用水平硅带替代传统垂直FinFET鳍片，并由栅极材料包裹，从而提升静电控制、降低泄漏电流，并缩短栅极长度。英特尔表示，从FinFET过渡至18A的RibbonFET后，栅极长度缩短约5-10%，且每只晶体管的功耗降低超20%。PowerVia则将电源网络转移至晶圆背面，释放前端金属层用于信号布线，缩短供电路径，减少高切换频率下的电压降。这些创新共同降低了切换能耗，并为设计师带来更高的频率或更低的功耗空间，尤其适合笔记本及移动产品。

这些晶体管和供电改进对最终产品的影响，还需看封装与模块化设计。Panther Lake采用Foveros-S 2.5D封装，细间距互连约36微米，将计算、图形与平台模块集成为单一芯片系统。该模块化方法允许英特尔针对每个功能将模块生产在最优工艺节点，不仅提升功能良率，也降低了大规模单体芯片的制造风险。

在Panther Lake中，计算模块采用Intel 18A工艺，而12-Xe GPU模块则是台积电N3E，4-Xe模块基于Intel 3工艺，平台控制器则用台积电N6节点。这种多节点、多模块组合使英特尔可灵活优化性能、良率及上市时间，同时支持计算、图形及I/O子系统的独立迭代升级。

战略层面上，Panther Lake及18A量产为英特尔吸引代工客户、恢复制造业信誉提供了工程样本。但最终商业成功则取决于成本、良率稳定性和生态体系支持，而不仅仅是技术创新。已公布的高密度数据在晶体管每平方毫米数量方面略优台积电N2，但英特尔认为PowerVia提升了实际可用面积，RibbonFET与背面供电结合也带来了实际工作负载下的效率提升。需要注意的是，背面供电也增加了工艺复杂度与成本，英特尔仍需在未来证明这些取舍能在大规模和多产品线下获得实际收益。