![]()
从 12 月 1 日起荷兰 ASML 先进光刻机制造将受限!涉及到 EUV 光刻机的镜头光源配件的原材料:镧、钍、钇等稀土材料及稀土永磁电机,光刻胶、薄膜材料等也需多种稀土元素!
ASML的EUV光刻机被誉为“芯片制造皇冠上的明珠”,其技术复杂度远超普通设备。以7纳米以下制程为例,EUV系统需通过极紫外光源将电路图案精准投射到硅片上,而这一过程依赖三大核心部件:蔡司生产的镜头需掺入镧系元素以提升透光率。
光源系统中的钇靶材负责反射极紫外光;磁悬浮工作台的钕铁硼永磁体则确保纳米级定位精度。数据显示,单台EUV光刻机消耗的稀土磁体超10公斤,钕铁硼材料占电机成本的30%以上。
但鲜为人知的是,这些关键材料的精炼技术几乎被中国垄断。2022年中国稀土产量占全球70%,冶炼分离产能更达92.3%。
例如,EUV光源所需的掺铥氟化钇锂晶体,全球90%的产能集中在中国企业手中;下一代BEUV(超越EUV)技术中,驱动激光所需的铥元素、反射镜掺镧涂层等材料,同样依赖中国供应链。这种“技术在中国手中,材料在中国地里”的格局,让ASML陷入两难。
这场限制的直接推手是美国。2018年,中芯国际曾与ASML签订1.2亿美元的EUV光刻机采购合同,设备已装箱待运,却因荷兰政府未发放出口许可证而搁浅。
2023年7月,美国商务部长雷蒙多与荷兰高层密谈,明确要求扩大出口管制范围;同年9月,荷兰正式将EUV及部分高端DUV机型列入限制清单。美国甚至动用《瓦森纳协定》这一冷战遗产,将光刻机技术列为“敏感物项”。
荷兰的妥协并非自愿。ASML2022年财报显示,中国市场占其总营收的14%,2025年三季度在部分型号受限情况下,中国市场订单仍从8台增至20多台。
但美国通过外交压力、情报介入甚至威胁切断荷兰与北约技术合作,最终迫使荷兰站队。这种“政治正确优先于商业利益”的选择,让ASML陷入订单流失与供应链断裂的双重困境。
面对封锁,中国选择“以资源换技术”的反制策略。2025年8月,商务部发布公告,对镓、锗、锑及部分稀土产品实施出口管制,要求涉及14纳米以下芯片、先进半导体设备研发的用途需逐案审批。
这一举措直击ASML命门:EUV光源中的二氧化锡靶材、稀土永磁电机均受影响;更关键的是,下一代BEUV技术所需的钆、铽等中重稀土,中国是全球唯一具备规模化供应能力的国家。
反制效果立竿见影。ASML紧急派高管来华沟通,试图争取豁免;美国国防部启动“稀土替代计划”,却发现全球高性能磁铁专利90%掌握在中国企业手中。更讽刺的是,美国格芯公司因缺乏中国镓供应,氮化镓生产线几近停摆,最终不得不与中国代工厂合作推行“China for China”战略。
封锁倒逼中国加速自主创新。2025年8月,杭州首台商用光刻机下线,虽未达到EUV水平,但标志着中国在传统光刻领域实现突破。与此同时,清华大学团队在EUV光刻胶领域取得进展,哈工大研发的抛物椭球反射镜加工精度达RMS 0.27nm,接近ASML技术标准。
更值得关注的是,中国已建成“稀土-半导体材料-光刻机部件”的全产业链闭环,安泰科技等企业实现从矿山开采到永磁体制造的一体化布局。
这场博弈揭示了一个残酷现实:在半导体领域,技术壁垒与资源控制同样重要。ASML的困境在于,其技术优势建立在中国的资源供给之上;美国的算盘则因忽视产业规律而落空。当中国用稀土这张牌重新定义游戏规则时,全球科技格局正悄然改变。
12月1日的限制令实施后,ASML或将面临订单延迟、成本上升的双重压力,而中国半导体产业则可能在压力下加速突围。这场没有硝烟的战争,最终会走向何方?
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.