华为鸿蒙 HarmonyOS 6.0.0 (20) Beta5 开发者版本发布

IT之家 9 月 15 日消息，华为鸿蒙 HarmonyOS 6.0.0 (20) Beta5 开发者版本今日发布，新版本在 5.1.1 (19) 版本基础上，进一步增强 ArkUI 组件能力，新增多个系统组件并优化多个组件调用细节等；ArkWeb 的 Chromium 内核升级至 132 版本，ArkWeb 能力增强；新增端侧问答模型，支持端侧的智能问答，新增智慧化数据检索 C API，支持向量化、知识检索和知识问答的能力；地图能力新增矢量图层、流场图层、海量点图层、热力图层，支持通过自定义组件生成 marker 图标等等。

另外，DevEco Studio 新增 AI 智能辅助编程，进一步提升编译构建效率和优化内存占用，ArkUI Inspector 新增支持按照组件粒度 3D 展开应用，方便查看组件之间的嵌套、遮挡关系，智慧调优能力新增支持对 Allocation 内存分配问题和 Snapshot 内存堆快照问题进行分析。

IT之家附华为鸿蒙 HarmonyOS 6.0.0 (20) Beta5 开发者版本关键特性如下：

AppGallery Kit 应用市场更新功能新增支持 Wearable 设备。App Linking Kit 新增支持通过聚合链接按指定方式跳转至应用，例如跳转至 HarmonyOS 平台预览页、应用市场详情页、自定义网址、深度链接地址等。ArkUI C API 新增提供渲染节点的能力。Camera Kit 新增支持对微距状态变化事件的监听。Media Kit 新增支持通过 C API 设置捕获图像在目标区域的填充模式。

DevEco Studio 6.0.0 Beta5（6.0.0.848）新增和增强特性如下：

开发环境搭建 元服务工程支持 Car 设备开发。 新建元服务工程时，支持在 DevEco Studio 页面内注册新的元服务 App ID。 新增 OpenHarmony 开源中心仓（OHPM Index）入口，帮助开发者高效筛选和管理三方库。使用 AI 智能辅助编程 智能问答新增添加本地的知识库，并根据知识库进行指定风格的上下文问答功能。 新增生成意图装饰器和添加意图插件能力，以及 DevEco Studio 新增内嵌的小艺智能平台。编写与调试应用 新增支持测试 C++ 代码，对 C++ 代码进行覆盖率统计。 自动签名新增关联注册应用进行签名的功能。 Code Linter 新增 6 条检查规则。变更特性 在预览器中使用文件管理相关的 API 时，仅支持预览 / 预览调试 Stage 模型的 HAP / HSP，并且需要先打开 Enable file operation 开关。

软件包

发布类型

版本号

Build Version

发布时间

系统

Beta

HarmonyOS 6.0.0 Beta5

软件版本：6.0.0.47

API 版本：6.0.0 (20)

2025/09/15

DevEco Studio

Beta

DevEco Studio 6.0.0 Beta5

6.0.0.848

2025/09/15

SDK

Beta

HarmonyOS 6.0.0 Beta5 SDK

基于 OpenHarmony SDK Ohos_sdk_public 6.0.0.47 (API 20 Beta5)

2025/09/15