江苏
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某芯片厂的中水回用膜，总被高硅垢 “拖垮”—— 中水硅离子超 55mg/L，形成的硅垢渗透膜孔，才 1.2 年膜寿命就剩半年，膜通量从 19LMH 跌到 11LMH，更糟的是产水电阻率从 18.2MΩ・cm 掉到 15.3MΩ・cm，芯片清洗用水不达标，良率降了 3%。传统阻垢剂螯合硅离子能力弱，每月酸洗 1 次，反而加速膜老化，运维员急得天天盯水质。
森纳斯反渗透膜阻垢剂针对芯片厂 “高硅 + 保纯度” 需求，优化了配方：特殊螯合成分像 “磁铁” 一样精准抓硅离子，不让其结晶；高分子分散成分还能把微小硅粒拆成 5μm 以下微粒，避免堵膜孔。考虑到芯片厂用水连续，它支持液体剂型，开桶直接投加，不用耽误处理节奏。
投加后效果立显：膜面硅垢减少 91%，摸上去没有粗糙感，膜通量稳定在 18.2LMH 以上。更关键的是，产水电阻率稳稳维持在 18MΩ・cm，芯片清洗再也没因水质波动返工。膜寿命从 1.2 年延长到 3 年，不用频繁酸洗，膜材质也没出现老化迹象。对芯片厂来说，森纳斯反渗透膜阻垢剂不仅是 “硅垢克星”，更是守住芯片良率的 “纯度卫士”。
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