盛美上海首台高产出Ultra LITH KrF顺利交付中国头部逻辑晶圆厂！

9月8日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”）宣布推出首款自主研发的高产出KrF工艺前道涂胶显影（Track）设备Ultra LITH KrF，并宣布该设备已于9月成功交付中国头部逻辑客户！高产出Ultra LITH KrF的问世，是盛美上海在光刻工艺前道设备领域迈出的关键一步，标志着公司光刻Track产品版图的进一步扩展。
高产出Ultra LITH架构新突破
据了解，不同于业界主流的水平式方案，Ultra LITH采用盛美上海自主创新、并已获得全球专利申请保护的垂直交叉式结构设计。这一全新架构拥有三大显著优势，一是高产能：显著缩短机械手行程、提升传输效率，使系统产能在现有基础上进一步突破，其产能可达到300片晶圆/小时（WPH）以上；二是工艺领先：设备内部的气流分布经过优化，降低颗粒污染风险，而腔体独立排气设计则提升了光刻胶厚度的均匀性；三是拥有高可靠性和稳定性：系统还配备自主研发的电控系统与软件控制平台，实现低延迟与高实时性，并通过AOI监控实现全程异常检测，进一步保障了可靠性。
Ultra LITH KrF系统正是基于盛美上海这一成熟的平台架构，融合多项自主创新技术，具备高产能、先进温控、实时工艺控制与监测等优势。该设备配备12个旋涂腔和12个显影腔（12C12D），搭载54块可精确控温的热板，产能超过300WPH，并集成背面颗粒去除（BPRV）及晶圆级异常检测（WSOI）模块，有效保障工艺稳定性和生产良率。
随着Ultra LITH KrF设备的正式交付，盛美上海的Track系列实现了从ArF到KrF的全面覆盖，形成了兼顾先进工艺与高产能的针对成熟节点的完整产品矩阵。此前，盛美上海ArF工艺涂胶显影设备已于2024年底在国内头部客户完成工艺验证，而此次KrF产品的加入，则进一步巩固了公司在光刻工艺环节的布局。值得关注的是，盛美上海对接高产出ArF i浸没式光刻机的Track设备也正在研发中，计划于2026年正式推出，届时将进一步完善公司在光刻Track领域的全线产品版图。
盛美上海总经理王坚表示：“KrF光刻技术仍是全球成熟工艺产线的重要支撑，Ultra LITH KrF的推出拓展了盛美上海在前段工艺设备领域的产品阵列。值得一提的是，我们在该设备中采用了独家供货的机械手传输系统以及其它关键零部件，确保系统的稳定性与高精度。此类KrF设备在全球半导体产出中占比庞大且将持续增长，通过同时提供ArF和KrF工艺涂胶显影系统，我们在更广泛的应用领域中，实现了顺畅的晶圆厂集成效率，提升制造灵活性。”
盛美上海加速布局光刻Track 推动国产前道工艺装备突破
在光刻工艺中，Track设备（涂胶显影机）与光刻机密切配合，是晶圆制造不可或缺的关键环节。其主要功能涵盖光刻胶涂布、预烘烤、显影及后烘烤等步骤，直接决定了图形转移的精度和良率。随着先进制程对线宽控制、缺陷率及产能效率的要求不断提高，Track设备的重要性日益凸显。掌握高产出Track设备核心技术并形成完整的产品矩阵，已成为推动国产前道工艺装备突破的关键一环。
与此同时，在成熟制程产能需求持续扩大的背景下， KrF及ArF Track设备市场空间广阔。市场研究机构QYResearch数据显示，2024年全球半导体Track系统市场规模约为39.32亿美元，预计到2031年将达到62.13亿美元，2025~2031年间的复合年均增长率（CAGR）为6.3%，因此KrF与ArF Track设备将在未来数年持续迎来强劲需求。
在这一趋势下，盛美上海不断加快光刻Track产品的研发和交付。从2022年通过Ultra LITH ArF产品进入前道涂胶显影设备赛道以来，凭借模块化设计、工艺兼容性与核心工艺控制模块的集成优势，盛美上海设备在系统良率保障能力方面持续提升。如今，随着KrF与ArF设备的“双轮驱动”，盛美上海正从清洗、电镀、炉管以及先进封装等传统优势领域，进一步夯实在前道Track这一关键工艺环节的布局，并逐步站稳脚跟，有望快速实现高产出的量产KrF Track国产化率零的突破，成为盛美上海实施的平台化战略的又一个里程碑。盛美上海也在积极推进面向存储客户的更高产出400WPH KrF Track设备的研发，预计将于2026年推向市场。
依托持续创新与本土化支持能力，盛美上海的Track设备在晶圆厂产线中的渗透率正逐步提高。展望未来，随着Ultra LITH KrF的量产与推广，盛美上海有望在全球光刻Track市场中占据更加重要的战略地位！