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金融界2025年8月18日消息，国家知识产权局信息显示，朗姆研究公司申请一项名为“在室调节中的抗氧化保护层”的专利，公开号CN120497124A，申请日期为2018年12月。
专利摘要显示，在一些示例中，一种用于调节晶片处理室的方法包括：将所述室中的压强设定至预定压强范围；将所述室中的温度设定至预定温度范围；并且将处理气体混合物供应至所述室内的气体分配装置。在所述室内点燃等离子体并且监控所述室中的状态。基于检测到所监控的所述状态到达或越过阈值而实施室调节操作。所述室调节操作可以包括：将预调节膜沉积于所述室的内表面上，将碳氧化硅(SiCO)膜沉积于所述预调节膜上，以及将保护层沉积于所述SiCO膜上。
本文源自：金融界
作者：情报员
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