北京
分享至
金融界2025年8月9日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“一种反应腔室及薄膜沉积设备”的专利，公开号CN120443137A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明公开了一种反应腔室及薄膜沉积设备，该反应腔室包括：传输通道，所述传输通道开设有缺口；调节组件，所述调节组件包括与所述缺口相契合且活动设置的调节板。本发明通过调节板的活动控制，使传输通道在封闭与开放两种状态下切换，实现对于反应腔室的体积调节，如此可以有效隔绝气态反应物，减少薄膜无序沉积，提升设备运行效率，并确保清洁死角得到彻底清理，降低晶圆污染风险，从而增强反应腔室的使用效果，进而显著提高产品性能与成品率，优化生产流程。
天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目21次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息287条，此外企业还拥有行政许可29个。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
