北京
金融界2025年8月7日消息，国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“光学系统”的专利，公开号CN120428435A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本申请涉及一种光学系统，包括：图像生成器、逆反射器和反射组件，其中图像生成器包括第一区域和第二区域，第一区域用于生成包括第一偏振光束的第一图像，第二区域用于生成包括第二偏振光束的第二图像，第一偏振光束经逆反射器形成入射至图像生成器的第三偏振光束；反射组件用于将第三偏振光束和第二区域内的第二偏振光束反射，以形成位于相异焦面的虚像。本申请通过在图像生成器的一侧设置逆反射器，使图像生成器中的第一偏振光束经逆反射器形成入射至图像生成器的第三偏振光束，再利用反射组件将第三偏振光束和第二区域内的第二偏振光束反射，以使图像生成器中不同区域内的偏振光束形成相异焦面的虚像，实现了多焦面显示虚像的效果。
天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目656次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可263个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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