北京
金融界2025年8月4日消息，国家知识产权局信息显示，无锡新洁能股份有限公司申请一项名为“外延层制造方法、外延层及增大工艺窗口的超结功率器件”的专利，公开号CN120417452A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明涉及外延层制造方法、外延层及增大工艺窗口的超结功率器件。本发明包括提供高掺杂浓度的N型衬底，生长低掺杂浓度的N型半导体，形成第一外延层；在第一平面上生长N型半导体，形成第二外延层；在晶圆的正面形成第一阻挡层；在晶圆的正面进行刻蚀，形成多个第一梯形沟槽；在晶圆的正面生长N型半导体，并填充满第一梯形沟槽，第一梯形沟槽内的N型半导体构成超结功率器件的N型柱；在晶圆的正面形成第二阻挡层；在晶圆的正面进行刻蚀，形成多个第二梯形沟槽；在晶圆的正面生长P型半导体，并填充满第二梯形沟槽，第二梯形沟槽内的P型半导体构成超结功率器件的P型柱。
天眼查资料显示，无锡新洁能股份有限公司，成立于2013年，位于无锡市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本41533.2567万人民币。通过天眼查大数据分析，无锡新洁能股份有限公司共对外投资了18家企业，参与招投标项目23次，财产线索方面有商标信息40条，专利信息278条，此外企业还拥有行政许可47个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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