金融界2025年7月12日消息,国家知识产权局信息显示,赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司申请一项名为“半导体结构及其制备方法”的专利,公开号CN120299995A,申请日期为2025年04月。
专利摘要显示,本发明公开了一种半导体结构及其制备方法,方法包括:提供一半导体基板,所述半导体基板表面具有铝层;在所述铝层上形成图形化的光刻胶层,所述光刻胶层上具有多个刻蚀窗口;采用包含氢氟酸的第一刻蚀液,通过所述刻蚀窗口对所述铝层进行一次刻蚀,以在所述铝层上刻蚀形成第一凹槽;采用第二刻蚀液,通过所述刻蚀窗口和所述凹槽对所述铝层进行二次刻蚀,以在所述铝层上刻蚀形成第二凹槽;去除所述光刻胶层。
天眼查资料显示,赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司,成立于2015年,位于北京市,是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本210526.32万人民币。通过天眼查大数据分析,赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司参与招投标项目22次,专利信息145条,此外企业还拥有行政许可104个。
本文源自:金融界
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.